干得漂亮！EDA软件、光刻技术相继突破，国产芯片未来可期

近年来，受众所周知的原因影响，中国在芯片领域被海外垄断的问题一直是全国关注的焦点。

随着形势越来越严峻，就连普通消费者也开始关心国内半导体产业的发展现状。但是，很少有人清楚地知道，国产芯片到底面临多大的困难。

国产芯片的难题

大多数消费者了解到的光刻机，只是国产芯片发展道路上难以逾越的大山之一。

光刻机

放眼全球光刻机制造领域，只有荷兰阿斯麦能够稳定量产EUV光刻设备。而在阿斯麦的背后，是一条全球化的顶级供应链，供应商遍布世界各地。

更需要注意的是，阿斯麦的极紫外光源，是美国动用举国之力耗时十几年研发出来的尖端技术。

EDA软件

随着工艺制程的微缩，电路集成度越来越高，能够实现电路设计的EDA软件也变得更不可或缺。

但目前全球EDA软件市场被美国以及日本的三大巨头垄断，占有率达到90%以上。美日三巨头在中国市场的占有率超过95%，中国EDA企业只能在夹缝中生存。

晶圆

硅晶圆片就是芯片最核心、最基础的原材料，对于纯度的要求非常高。

目前全球硅材料生产制造最有名的企业当属日本的信越化学、SUMCO、韩国的LG化学以及中国台湾的环球晶圆。

中国大陆虽然也有硅片制造商，但产能、市场份额以及产品实力上距离国际大厂还有很大差距。

不过，虽然我国在很多关键设备或技术上落后于海外，但近年来正在加速追赶，现阶段更是取得了多项突破。

EDA、光刻技术相继突破

EDA一直是国家的攻关重点。为了推动EDA工业软件的发展，我国工信部号召国内11家企业，组建了“软件联盟”。

在这个联盟中，十多家中国企业分工合作，既实现了人才和资源的集中，又在一定程度上缩短了研发周期。

笔者相信，在仅剩的5%的市场空间中，国产EDA软件终将崛起。

此外，在6月上旬中科院也传来一则好消息。

中科院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室，提出了一种基于虚拟边与双采样率像素化掩模图形的快速光学邻近效应修正技术。

这项计算光刻技术具有较高的修正效率，可以起到推动集成电路芯片按照摩尔定律发展的作用。

国产芯片未来可期

除了上述突破之外，我国在碳基晶圆、高端光刻胶等技术或材料上也取得了令人欣慰的成绩。

当然，在技术研发攻关的同时，我国也没有忘记加大人才培养力度，完善教育体系，为后续的科技研发做准备。

笔者了解到，国家针对集成电路领域的教育层面制定了一系列的政策，推动各大知名高校培育更多的专业人才。

值得一提的是，相关企业也与高校达成了合作，为专业人才提供实践平台，实现产学研融合。

弥补人才缺口的同时，2020年下半年掀起的缺芯潮，则为中国半导体产业带来了绝佳的机遇。

激增的市场需求，一方面有助于国内扩充芯片产能，并建设起本土化成熟工艺产业链。另一方面也有助于配套产业的建设，让相关企业的发展环境更友好。

政策上的支持、市场环境的利好以及中国半导体产业立志打破海外垄断的决心和激情，都是中国芯片走向世界舞台的有力支撑。

在国内与相关方面科技竞争常态化的大背景下，中国半导体产业必须要抓住机会，掌握更多的话语权和主动权，国产芯片才能够未来可期。

来源：小鹭姐姐