是德科技宣布推出新的模型生成器(MG)环境

据telecompaper网8月30日报道,是德科技最近宣布推出新的模型生成器(MG)环境,通过提高整个工作流程的自动化程度,提高半导体器件建模工程师的工作效率。

是德科技宣布推出新的模型生成器(MG)环境

图片来自:Baidu

半导体器件建模工程师需要自动化工具来为同时利用硅(CMOS)和化合物III-V技术的基带和射频(RF)集成电路(IC)设计创建精确的仿真模型和工艺设计套件(PDK)。为了满足设备建模工程师不断增长的需求,是德科技的设备建模2023软件套件包括PathWave设备建模(IC-CAP)2023,这是一种新的建模流程管理器,可一键导入测量数据、创建趋势图、组织提取流程、基本QA验证和文档。IC-CAP还升级了射频氮化镓(RFGaN)封装,这是一种在高功率RF应用中具有显著优势的宽带隙材料,支持最新的紧凑型模型联盟(CMC)版本,包括改进的提取流。

(编译:墨书)

来源:邮电设计技术

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