漂亮国施压荷兰对我国禁售DUV光刻机，对芯片行业有何影响？

知情人士爆料，美国官员正在施压荷兰政府，将对华禁售的ASML光刻机从最先进的EUV扩展至相对成熟的DUV。光刻机是半导体制造的核心设备，研发难度较高，ASML目前是全球最大的光刻机供应商。如果荷兰政府同意该提议，这可能会对中芯国际和华虹半导体等中国芯片制造商造成不小的影响。旧款DUV光刻机，可生产7nm及以上制程工艺芯片，是制造汽车、手机、计算机乃至机器人所需的某些非先进芯片的最常用设备，在目前全球芯片短缺之际必不可少。

芯片制作完整过程包括芯片设计、晶片制作、封装制作、测试等几个环节，其中晶片制作过程尤为的复杂。芯片的原料晶圆。光刻工艺的基本流程，首先是在晶圆（或衬底）表面涂上一层光刻胶并烘干。烘干后的晶圆被传送到光刻机里面。光线透过一个掩模把掩模上的图形投影在晶圆表面的光刻胶上，实现曝光，激发光化学反应。

采用图扑软件 – 构建先进 2D 和 3D 可视化所需要的一切实现SMT生产线的数字孪生，实现印刷机、贴片机（上表面电子元件）、回流焊、插件、波峰炉、测试包装等设备的线上监控，将 HMI 的实时数据接入 Hightopo 可视化系统，结合5G、F5G等技术还能实现设备的远程控制。

我们以其中的印刷机为例，来看一下设备建模涉及属性和呈现方式。例如：印刷机、SPI 检查机、贴片机、回流焊、 AOI 检测设备等。AGV 小车、摄像头、消防设备、空调、电视等所在位置以及对应的设备实时数据、运行状态，均可直观的展示在三维场景之中，通过物联技术实现场景整体联动。

数字孪生厂房

产线设备预览

作业仿真

制造数据可视化

针对行业运营、政企决策需求可通过多维度数据面板展示产线整体的主要数据，基于用户数据建设运行成果，将枯燥、分散的数据进行图形化、可视化化。运用图形化的手段清晰有效地将数据信息进行解读和传达，帮助我们发现其中的规律和特征，挖掘数据背后的价值。

每一个生产设备都有自己的理论产能，要实现这一理论产能必须保障没有任何干扰和质量损耗。OEE 就是用来表现设备的生产能力相对于理论产能的比率。OEE=[时间利用率]*[性能利用率]*[合格率]*100%。SMT的广泛应用，促进了电子产品的小型化、多功能化，为大批量生产、低缺陷率生产提供了条件。

图扑软件可视化利用丰富的图表、图形和设计元素将相对复杂、抽象的数据通过可视的方式以更直观理解的形式展现，便于运维人员的高效管理，无需通过人工核算等复杂形式进行运维分析。

设备信息可视化

芯片是一种集成电路，由大量的晶体管构成。不同的芯片有不同的集成规模，大到几亿；小到几十、几百个晶体管。通过对接数据接口实现图扑可视化系统内三维场景里重点设备业务数据可视化，在页面中展示重点关注设备状态，加入智能预警分析功能，一旦设备数据超过既定阈值并且历史数据进行分析研判，将在三维场景内对设备进行标红闪烁以呈现告警状态。结合智能巡检实现故障的查询，事故原因的判断。

室内定位

通过北斗系统和UWB技术定位AGV小车和人员的作业位置，UWB技术具有系统复杂度低，发射信号功率谱密度低，对信道衰落不敏感，截获能力低，定位精度高等优点，尤其适用于室内等密集多径场所的高速无线接入。 HT 还支持对历史运行轨迹的绘制。通过绘制出历史轨迹也可帮助管理者具体分析产线布局的合理性，及时作出相应调整。

光刻机被称作“半导体工业皇冠上的明珠”，与航空发动机并列，是人类工业难度极限。

2021年，我国规模以上电子信息制造业实现营业收入141285亿元，在量子计算、高端芯片、高性能计算机、网络架构、基础操作系统、卫星互联网应用、工业互联网及智能制造等领域取得一批重大科技成果。但在高端芯片、基础材料、核心软件等领域，我国仍明显落后于国际先进水平。

美国对华科技政策内容从单点对高科技企业的封锁制裁，扩大到涵盖技术管控、交流阻断、人才封锁等多手段组合，且在政策设计上越来越精准。2021年，我国电子信息行业延续稳定恢复态势，新动能加速形成，但受原材料价格高位上涨、芯片持续短缺以及基数较高等因素叠加影响，发展面临的困难增多。

来源：工业可视化